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半導体用ウェーハのお問い合わせは是非当社へ。

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サービス/製品一覧SERVICE&PRODUCTS

「成膜加工」

膜種によりますが2インチから450mmウェーハへの成膜が可能です。

酸化膜系:熱酸化、RTO、LP-TEOS、HDP-USG、P-TEOS、PSG、BPSG、BSG、LP-CVD、PE-CVD

窒化膜系: HCD-SiN、DCS-SiN、P-SiN、LP-SiN 、LP-CVD、PE-CVD

金属膜系: TaN、Ta、Cu、Al、AlN、Al-Si、Al-Si-Cu、Ni、W、W-Si-Cu

その他 Poly-Si、a-Si、SiC、Low-k(SiOC系、有機化学系)、グラフェン膜、グラファイト


*SiO2,SiN,SiONなど膜種により1枚からでも対応が可能です。

*Suputter成膜にてTi,Cu,Cr,Niなど対応可能です。

*レジスト塗布/露光/エッチングは4インチ〜12インチまで対応可能です。通常より厚い100u程度のレジスト膜なども対応可能です。

*テストパターン付ウェーハ(6インチから12インチ)も仕様により一貫で対応致します。

*レチクルご支給による、露光/エッチングも承ります。(8インチと12インチ)




バナースペース

株式会社エナテック

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