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半導体用ウェーハのお問い合わせは是非当社へ。

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「SOIウェーハ」

CZ・FZウェーハを使用した新規作成での対応も可能です。
新規作成の場合,最小枚数は10枚程度からのご提供になります。

直径:3inch-12inch
SOI層:2-200um程度(抵抗1万Ω以上など高抵抗対応可能)
SiO2(酸化膜)層:50nm-2um程度(0.1-10umも対応可能)
支持基板:300-725um程度(抵抗1万Ω以上など高抵抗対応可能)

*お手持ちの基板をご支給いただきSOIウェーハに加工することも可能です。








バナースペース

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